仪器操作说明

Helios NanoLab 600i FIB/SEM双束系统操作说明  (NPGS操作说明EDS操作说明)

NXQ4006紫外光刻机操作说明  (含涂胶机操作说明,热板操作说明)

TH400热蒸发镀膜机操作说明  (Plasma清洗模块说明膜厚监控仪说明)

LJ-E400L电子束蒸镀系统操作说明

MSP-3200磁控溅射镀膜机操作说明

ME-3A反应离子刻蚀机操作说明

LKJ-1D-100离子束刻蚀系统操作说明

Dimension Icon原子力显微镜操作说明

P-6表面形貌仪操作说明

7476D引线键合仪操作说明

RTP600xp快速退火炉操作说明

UV-1紫外线-臭氧清洗机操作说明

BX51光学显微镜操作说明

UNITEK 250DP点焊机操作说明

UL1000Fab氦质谱检漏仪操作说明

 

PMMA and Copolymer(MMA(8.5)MAA)产品说明

PMGI产品说明

AZ 1500产品说明 

化学品安全说明书(MSDS)

化学品:

Actone ((CH3)2CO)
Anisole (C6H5OCH3)
Ethanol (CH3CH2OH)
Isopropyl Alcohol ((CH3)2CHOH)
Methanol (CH3OH)

气体:

Argon (Ar) Chlorine (Cl2)
Compressed Dry Air (CDA) Forming Gas (H2/N2:5/95)
Helium (He) Hydrogen (H2)
Nitrogen (N2) Oxygen (O2)
Sulfur Hexafluoride (SF6) Tetrafluoromethane (CF4)
Trifluoromethane (CHF3)  

金属:

Aluminum (Al) Chromium (Cr)
Cobalt (Co) Copper (Cu)
Gold (Au) Nickel (Ni)
Niobium (Nb) Platinum (Pt)
Silver (Ag) Titanium (Ti)
Tungsten (W)  

光刻胶及显影液等:

 MicroChem 495 PMMA Series Resists in Anisole  MicroChem 950 PMMA Series Resists in Anisole
 MicroChem MMA(8.5)MAA Copolymer Series Resists  MicroChem PMGI SF Series Resists
 MicroChem EBR PG  MIBK/IPA 1:3 Developer
 101A Developer for PMGI  Remover PG
 AZ 1500 Series Resists  AZ 300MIF Developer